아래 포스팅는 IC 사용자 입장에서 IC latchup을 방지하기 위한 guide를 설명했다.
IC에서 Latchup 방지 하기 위한 몇가지 방법에 대해 설명하고자 한다.
1. Trench isolation
나란히 배치한 PMOS, NMOS를 물리적으로 분리하는 방법이다.
Trench isolation은 서로 마주보고 있는 두 transistor를 분리하여 Latchup을 막기위해 사용한다.
아래 그림은 물리적인 단면에 회로를 넣어 Lathcup을 설명 한다.
CMOS설계는 PMOS와 NMOS가 나란히 배치되기 때문에 pnpn scr구조가 생긴다.
PMOS와 NMOS사이에 trench isolation을 넣어 두 transistor를 분리하면 trench 에 current가 흐름이 막혀 latchup을 막을 수 있다.
Trench isolation방법은 Latchup을 효과적으로 막을수 있다는 장점이 있는 반면,
Trench를 넣기위한 단계가 추가되고 공정기간이 길어지는 단점이 있다.
2. Guardring 추가
PMOS와 NMOS 사이에 Guardring 을 추가하는 방법이 있다.
VDD를 통해 과전류가 들어오면 guardring용으로 넣은 pickup diffusion(P+, VSS)을 통해 빠져 나가게 된다.
이렇게 빠져나간 전류때문에 NPN BJT의 base전압이 turn on 문턱전압까지 올라가지 않게 된다.
VSS로 전류가 빠져 나가는 경우도 마찬가지 원리이다.
VSS로 빠져나가는 전류는 guardring으로 삽입한 N+(VDD) 를 통해 공급된다. 즉 PNP BJT의 base 전압이 낮아지지 않아, trun on을 막을 수 있다.
Guardring을 layout할때는 contact을 최대한 촘촘히 넣어 저항을 작게 만들어야한다.
PNPN 구조에서 base전압이 develop되지않게 만들기위해서다.
trench isolation으로 인한 추가 공정은 없으나, Guardring 을 삽입으로 인해 Layout면적이 커지는 단점이 있다.
Layout top view에서 보면 아래와같은 그림이 된다.
3. Current limiter
current path에 current limiter(저항)을 추가하는 PNPN SCR turn on을 막는 방법이 있다.
큰 current필요한 회로에는 적용할 수 없고, 넣을수 있더라도 회로 기본 동작에 영향이 있을 수 있으므로 적절한 크기의 limiter를 선정하는것이 중요하다.